| Наименование РИД |
Способ изготовления полупроводникового прибора
|
| Реферат |
Использование: изобретение относится к области технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к технологии изготовления затворного оксида полевого транзистора с пониженными токами утечки и снижения влияния инжекции горячих носителей. Сущность: технология способа состоит в следующем: на пластинах кремния р-типа проводимости создавали активные области «-канального полевого транзистора по стандартной технологии, выращивался слой термического оксида SiO2 толщиной 10 нм окислением в сухом кислороде О2 при температуре 850°С и атмосферном давлении в течение 50 мин. Затем проводили процесс азотирования 10-нанометрового термического оксидного слоя SiO2 в среде аммиака NH3 в течение 60 мин при температуре 850°С и давлении 0,1 атм и последующее реоксидирование азотированного оксида в сухом О2 при атмосферном давлении, температуре 850°С в течение 180 мин. Области полевого транзистора и контакты к этим областям формировали по стандартной технологии. Технический результат: реоксидирование обеспечивает удаление электронных ловушек и подавление образования состояний на границе раздела Si/SiO2 и, соответственно, снижение токов утечки и влияния инжекции горячих носителей.
|
| Возможные направления использования |
Изобретение относится к области технологии производства полупроводниковых приборов, в частности к технологии изготовления затворного оксида полевого транзистора с пониженными токами утечки и снижения влияния инжекции горячих носителей.
|
| Количество опытных образцов |
1
|
| Количество просмотров |
8
|
| Наличие дополнительных файлов |
False
|
| Использование РИД правообладателем |
False
|
| Внешнее использование РИД |
False
|
| НИОКТР (JSON) |
{}
|
| ИКСИ (JSON) |
[]
|
| ИКСПО (JSON) |
[]
|
| ОЭСР (JSON) |
[]
|
| Дата первого статуса |
2025-12-08T14:27:42.362292+00:00
|
| Предполагаемый тип результата |
Изобретение
|
| Ожидаемая роль |
Исполнитель
|
| Заказчик |
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ЧЕЧЕНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ АХМАТА АБДУЛХАМИДОВИЧА КАДЫРОВА"
|
| Руководитель работы |
Хасанов Асламбек Идрисович
|
| Руководитель организации |
Саидов Заурбек Асланбекович
|
| Регистрационный номер НИОКТР |
—
|
| Последний статус |
Подтверждена, 625121100412-3, 2025-12-11 13:02:36 UTC
|
| ОКПД |
Нет
|
| Ключевые слова |
полевой транзистор; полупроводники; пластина кремния; ток утечки; реоксидирование
|
| Исполнители |
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ЧЕЧЕНСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ АХМАТА АБДУЛХАМИДОВИЧА КАДЫРОВА"
|
| Авторы |
Хасанов Асламбек Идрисович
|
| Коды тематических рубрик |
29.19.31 - Полупроводники
|
| OESR |
Физика конденсированного состояния (включая физику твердого тела, сверхпроводимость)
|
| Приоритеты научно-технического развития |
б) переход к экологически чистой и ресурсосберегающей энергетике, повышение эффективности добычи и глубокой переработки углеводородного сырья, формирование новых источников энергии, способов ее передачи и хранения;
|