| Наименование РИД |
Плазмохимический реактор для получения равномерной нанокристаллической пленки на высокоаспектной подложке из твердого сплава
|
| Реферат |
Предполагаемое изобретение относится к области лазерной техники, машиностроения и электронике, в частности, к оптическим технологиям, а именно: к объёмно-резонаторным способам передачи СВЧ энергии в область подложки, расположенной в зоне ослабления электромагнитного поля, вызванного запредельным волноводом (ЗВ).
Сверхвысокочастотный плазменный реактор для получения однородной нанокристаллической алмазной пленки на высокоаспектной подложке из твердого сплава, содержащий аксиальный кольцевой запредельный волновод с радиальными отверстиями, совмещенный с основной проводящей платформой, расположенной в осесимметричной вакуумной камере и механизм вращения высокоаспектной подложки, расположенной в одном из радиальных отверстий, отличающийся тем, что он снабжен пассивным анодом в виде стержня с коническим уменьшением диаметра, установленном осесимметрично, в диаметрально расположенном радиальном отверстии. Реактор обеспечивает равномерное распределения температуры в области торца высокоаспектной подложки за счет высокой устойчивости плазменного столба ионного разряда, которая реализуется с помощью диффузной привязки к предварительно разогретой косвенным нагревом СВЧ плазмы цилиндрической части высокоаспектной подложки из твердого сплава и выравнивает температуру нагрева подложки путем создания нормальной j, составляющей электрического поля на торце стержня, устраняет локальный недогрев ростовой поверхности, улучшает кристаллическую структуру, однородность зернового наноразмерного состава и качества алмазного покрытия.
|
| Возможные направления использования |
Инструменты с алмазным покрытием подходят для механических и трибологических применений.
|
| Количество опытных образцов |
1
|
| Количество просмотров |
2
|
| Наличие дополнительных файлов |
False
|
| Использование РИД правообладателем |
False
|
| Внешнее использование РИД |
False
|
| НИОКТР (JSON) |
{}
|
| ИКСИ (JSON) |
[]
|
| ИКСПО (JSON) |
[]
|
| ОЭСР (JSON) |
[]
|
| Дата первого статуса |
2025-11-07T08:06:28.939019+00:00
|
| Предполагаемый тип результата |
Изобретение
|
| Ожидаемая роль |
Исполнитель
|
| Заказчик |
Российский научный фонд
|
| Руководитель работы |
Федоров Сергей Вольдемарович
|
| Руководитель организации |
Падалкин Борис Васильевич
|
| Регистрационный номер НИОКТР |
122060700077-8
|
| Последний статус |
Подтверждена, 626010600220-5, 2026-01-06 18:00:03 UTC
|
| ОКПД |
Нет
|
| Ключевые слова |
СВЧ микроволновой реактор; алмазные покрытия; высокоаспектная подложка; пассивный анод
|
| Исполнители |
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ "СТАНКИН"
|
| Авторы |
Григорьев Сергей Николаевич; Литвинов Артем Павлович; Конов Виталий Иванович; Федоров Сергей Вольдемарович; Сергейчев Константин Федорович; Большаков Андрей Петрович; Мартьянов Артем Константинович
|
| Коды тематических рубрик |
55.20.15 - Обработка потоками энергии
|
| OESR |
Электротехника и электроника
|
| Приоритеты научно-технического развития |
Отсутствует
|
