| Наименование РИД |
Способ изготовления многокристального модуля
|
| Реферат |
Изобретение относится к производству электронной техники, а именно к технологии производства трехмерных модулей и микросборок на основе коммутационных подложек с бескорпусными электронными компонентами, которые могут использоваться в аппаратуре с высоким уровнем плотности монтажа. Задачей изобретения является упрощение технологического процесса сборки и повышение надежности многокристального модуля. Технический результат достигается тем, что на уровнях модуля используются бескорпусные микросхемы, уровни размещаются друг над другом с созданием вертикальной коммутации посредством металлизированных отверстий в кремниевых рамках на каждом уровне, кристаллы размещаются на уровнях в сквозных окнах рамок, сформированных методом прецизионного травления или лазерной микрообработки, зазор между кристаллом и окном рамки заполняется высокотекучим компаундом с наноразмерным наполнителем за счёт капиллярного эффекта и планаризуется с последующим созданием слоев перераспределения непосредственно на кристалле и кремниевой рамке для первого слоя, и на композитном диэлектрике с пониженным ТКЛР и повышенной теплопроводностью для всех последующих слоёв, при этом в первом слое между областью кристалла и кремниевой рамкой формируется коммутация в виде проводящих мостов. Многокристальный модуль включает в себя несколько уровней, расположенных друг над другом, которые могут соединяться между собой через припойные шариковые выводы. Шариковые выводы устанавливаются на внешние контактные площадки слоев перераспределения и монтируются к нижележащему уровню на контакты, ведущие к металлизированным переходным отверстиям в кремниевой рамке. В одном изделии можно разместить несколько уровней с различными кристаллами. На подложке нижнего уровня формируется посадочное место для монтажа модуля на печатную плату. Уровень модуля включает в себя кремниевую рамку со сквозными металлизированными отверстиями. В кремниевой рамке по центру находится сквозное окно или окна, в которое размещаются кристаллы в процессе сборки модуля. Зазор между кристаллом и рамкой заполняется высокотекучим компаундом с наноразмерным наполнителем. Между рамкой и кристаллом возникает впадина, которая образуется из-за усадки компаунда в процессе его отверждения. В предлагаемом способе используется химическое нанесение части проводящих дорожек на первом коммутационном слое через дополнительный шаблон, чтобы заполнить данную впадину.
|
| Возможные направления использования |
метод изготовления трехмерных многокристальных микросборок по упрощенному технологическому процессу и с повышенной надежностью
|
| Количество опытных образцов |
0
|
| Количество просмотров |
1
|
| Наличие дополнительных файлов |
False
|
| Использование РИД правообладателем |
False
|
| Внешнее использование РИД |
False
|
| НИОКТР (JSON) |
{}
|
| ИКСИ (JSON) |
[]
|
| ИКСПО (JSON) |
[]
|
| ОЭСР (JSON) |
[]
|
| Дата первого статуса |
2026-01-20T14:01:57.878363+00:00
|
| Предполагаемый тип результата |
Изобретение
|
| Ожидаемая роль |
Исполнитель
|
| Заказчик |
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
|
| Руководитель работы |
Вертянов Денис Васильевич
|
| Руководитель организации |
Дронов Алексей Алексеевич
|
| Регистрационный номер НИОКТР |
125060506785-5
|
| Последний статус |
Подтверждена, 626020300380-8, 2026-02-03 10:47:59 UTC
|
| ОКПД |
Услуги (работы), связанные с научными исследованиями и экспериментальными разработками в области технических наук и в области технологий, прочие, не включенные в другие группировки, кроме биотехнологии
|
| Ключевые слова |
внутренний монтаж; flip-chip; RDL; многокристальные модуль
|
| Исполнители |
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ "МОСКОВСКИЙ ИНСТИТУТ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ"
|
| Авторы |
Тимошенков Сергей Петрович; Евстафьев Сергей Сергеевич; Беляков Игорь Андреевич; Кочергин Михаил Дмитриевич; Вертянов Денис Васильевич
|
| Коды тематических рубрик |
61.61.29 - Усиленные пластмассы, композиционные и наполненные материалы; 47.13.19 - Прочие технологические процессы и оборудование в производстве радиоэлектронной аппаратуры; 47.13.13 - Технология и оборудование для производства радиодеталей и компонентов; 47.13.11 - Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
|
| OESR |
Электротехника и электроника
|
| Приоритеты научно-технического развития |
а) переход к передовым технологиям проектирования и создания высокотехнологичной продукции, основанным на применении интеллектуальных производственных решений, роботизированных и высокопроизводительных вычислительных систем, новых материалов и химических соединений, результатов обработки больших объемов данных, технологий машинного обучения и искусственного интеллекта;
|