Глобальный поиск Единое окно поиска по РИД и запросам

Микроразмерная интеграция GaAs на неразориентированных подложках Si(001) для оптоэлектроники

Название НИОКТР Микроразмерная интеграция GaAs на неразориентированных подложках Si(001) для оптоэлектроники
Аннотация Проект направлен на разработку технологии прямой интеграции монокристаллических структур GaAs микронного и субмикронного размеров на неразориентированных подложках Si(001) как перспективного способа создания активной среды для элементной базы интегральной фотоники и оптоэлектроники, в первую очередь – компактных источников оптического излучения ближнего ИК-диапазона. Актуальность решаемой в рамках проекта научной проблемы обусловлена необходимостью разработки новых архитектурных и технологических подходов для создания высокопроизводительных и энергоэффективных систем передачи, обработки и хранения данных, сочетающих достоинства и возможности кремниевой интегральной технологии и технологии полупроводников A3B5. Основной проблемой данного подхода является сложность получения высококачественных с точки зрения кристаллической структуры полупроводников А3В5 при гетерогенной интеграции в сравнении с гомогенными структурами. Поэтому одной из ключевых задач в рамках развития данного направления является разработка конструктивно-технологических подходов прямой (монолитной) интеграции полупроводников А3В5 на кремниевых подложках, обеспечивающих структурные и функциональные характеристики материалов и оптоэлектронных и фотонных устройств на их основе, сопоставимые с дискретными решениями. Основной идеей проекта является использование для локальной интеграции GaAs на кремниевой подложке сочетания возможностей технологии капельной эпитаксии и нано- и микроразмерного структурирования поверхности неразориентированных (on-axis) подложек Si(001) со слоем SiO2, т. е. селективного получения отдельных монокристаллических структур GaAs субмикронных размеров. Проект подразумевает комплексную проработку всех основных этапов на пути к разработке технологии микроразмерной интеграции GaAs на подложках кремния с использованием обозначенного подхода – от целенаправленного структурирования подложек, обеспечивающего конкретный тип морфологии, до комплексной оптимизации разрабатываемых в рамках предлагаемого подхода методик с целью обеспечения требуемого оптического и структурного качества эпитаксиального материала. Ожидается, что именно микроразмерная интеграция, т. е. интеграции отдельных монокристаллов GaAs субмикронных размеров на кремниевой подложке, позволит, с одной стороны, обеспечить высокое структурное совершенство материала, а с другой, обеспечить полноценную конструктивно-технологическую и функциональную интеграцию компактных источников света, в том числе, неклассического (квантового), в фотонные интегральные схемы на основе кремния. Это позволит не только существенным образом расширить функционал и область применения существующих решений в области интегральной оптоэлектроники и фотоники, но и перейти к полноценным гибридным архитектурам, сочетающим преимущества кремниевой технологии и полупроводников А3В5.
Доступ к ОКОГУ исполнителя False
Количество связанных РИД 0
Количество завершенных ИКРБС 0
Сумма бюджета 3000.0
Дата начала 2026-01-01
Дата окончания 2027-12-31
Номер контракта 25-29-01239
Дата контракта 2026-01-01
Количество отчетов 1
УДК 621.373.8:658.274; 621.375.8:658.274
Количество просмотров 1
Руководитель работы Шандыба Никита Андреевич
Руководитель организации Веретенникова Вера Анатольевна
Исполнитель ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ЮЖНЫЙ ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ"
Заказчик Российский научный фонд
Федеральная программа Отсутствует
Госпрограмма
Основание НИОКТР Грант
Последний статус 2026-02-02 12:04:03 UTC, 2026-02-02 12:04:03 UTC
ОКПД Услуги, связанные с научными исследованиями и экспериментальными разработками в области нанотехнологий
Отраслевой сегмент
Минздрав
Межгосударственная целевая программа
Ключевые слова Фокусированный ионный пучок, молекулярно-лучевая эпитаксия, капельная эпитаксия, A3B5, селективная эпитаксия, кремний, монолитная интеграция, гетероструктуры
Соисполнители
Типы НИОКТР Фундаментальное исследование
Приоритетные направления
Критические технологии
Рубрикатор 47.13.06 - Технология и оборудование для производства приборов и устройств квантовой электроники
OECD
OESR Нано-материалы [производство и свойства]
Приоритеты научно-технического развития а) переход к передовым технологиям проектирования и создания высокотехнологичной продукции, основанным на применении интеллектуальных производственных решений, роботизированных и высокопроизводительных вычислительных систем, новых материалов и химических соединений, результатов обработки больших объемов данных, технологий машинного обучения и искусственного интеллекта;
Регистрационные номера